汎銓3月每股純益達0.35元 年增逾五成

汎銓參加2026電子生產製造設備展，圖為客戶參觀旗下MSS HG平台。圖／汎銓提供

AI晶片研發分析平台汎銓今日有價證券於集中交易市場達注意交易資訊標準，故主管機關要求公布今年3月自結損益，3月自結合併營收為2.24億元，稅前淨利2,264萬元，稅後淨利1,802萬元，每股稅後盈餘0.35元，分別年增22.88％、42.04％、53.94％、54.81％。

隨著前期大規模資本支出逐步完成，新建海外營運據點產能已陸續開出，並快速轉化為營收與獲利貢獻，使整體營運規模與獲利能力同步提升，顯示營運已邁入新一輪成長循環。

除既有材料分析(MA)及AI晶片分析業務委案需求熱轉外，汎銓第二成長曲線亦已啟動，積極搶攻矽光子檢測與設備市場商機，已成立矽光子工程處，並完成3台自主研發之「MSS HG」矽光子分析設備建置，其核心「光損偵測裝置」技術已取得台灣、日本及美國發明專利，奠定汎銓於矽光子檢測分析與設備領域之高度競爭優勢。

汎銓旗下「MSS HG」矽光子測試平台平台聚焦三大應用場景，包括光學失效定位、少量多樣工程研發測試，以及客戶端導入之in-house研發/分析設備，提供客戶從前期失效定位、中期工程測試，一路到後期內部設備導入的完整解決方案。

汎銓MSS HG平台聚焦三大應用場景，包括光學失效定位、工程研發測試及客戶端導入的in-house研發與分析設備。圖／汎銓提供